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                  光學鍍膜材料制備技術

                  來源:本站 發布日期:2020-09-15

                    公司生產的光學鍍膜材料主要為氟化鎂。該材料是在真空熔融狀態下,采用“雙坩堝區熔連續漏注工藝”對氟化鎂原料進行加工,通過大氣燒結、提純處理、氟化處理等過程分離其雜質,使其達到所需要的高純度與結晶度。“雙坩堝區熔連續漏注工藝”是公司獨有技術,它最大優點是可以大幅度地提高產量。另外公司技術人員還對真空爐內的構造進行了全面的設計改造。真空系統采用局部加熱區熔煉、漏注淬火工藝,使產品自身炸裂,形成顆粒狀結構。該系統保證產品不出片狀,少出粉末,提高了產品球狀度和成品率。
                    產品簡介:
                    ■專業生產高純度MgF2光學鍍膜材料、CaF2光學晶體;
                    ■公司產品全部通過ISO9001-2000質量認證;
                    ■MgF2光學鍍膜材料通過SGS以及MSDS等國際認證;
                    1.光學鍍膜材料:                   
                    獨立研發生產MgF2鍍膜材料(純度:99.99% ),密度:3.18g/cm3,折射率:1.38(0.50μ),產品性能已達到或超過國外公司的同類產品水平。
                    2.光學晶體生長與加工:
                    獨立研發生長CaF2光學晶體,擁有批量生產能力,可提供棒料(<?220mm,單晶或多晶)、規格毛坯及各種透鏡、棱鏡、窗口等。 
                    產品價格:
                    MgF2:常規規格1-2/2-3/3-4 mm,如需特種規格請提前聯系,具體價格請電詢。

                    CaF2:按客戶要求訂制,具體價格請電詢。


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